深圳基板抛光液性能

时间:2020年06月02日 来源:

集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液:一种用于集成电路多层互连结构铜/钽化学机械抛光(CMP)的一步抛光工艺技术及相应纳米抛光液。对于互连结构的铜/钽多层膜体系的化学机械抛光,通过本发明的“一步抛光工艺”,单头抛光机能够代替昂贵的多头抛光机,实现多层膜的分步抛光。通过化学机械抛光过程中多层膜体系界面间在线检测信号(声学、力学、电学或光学信号)差异的反馈,对抛光液实施分段应用,有效改善了原有的单一抛光液或分步抛光中存在的低速率及选择性问题。该抛光工艺及相应纳米抛光液有效改善了单一抛光液的速率问题;以单头抛光机代替多头抛光机,降低了设备成本;同时抛光后表面损伤少、易清洗,抛光液不腐蚀设备、不污染环境。本公司销售的纳米抛光液应用范围:透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。深圳基板抛光液性能

纳米级抛光液制备方法:本发明属于研磨料技术领域,由纳米级金刚石粉、非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂、和C9以下轻质白油或石脑油组成,其制备方法为将纳米金刚石机械研磨成粉体,烘干;加入分散稳定剂,加热混合使粉体润湿;加入白油或石脑油,抗静电剂,净洗剂,以及适量pH值调节剂,并不断搅拌,将混合物分散成悬浮液。本发明将产品的表面抛光质量提高到亚纳米量级,以适应于计算机磁头、光学器件和陶瓷等高精度表面研磨和抛光之用。深圳基板抛光液性能纳米 抛光液能达到超精密的抛光效果,分散稳定性,长时间不沉淀,不团聚。

钢铁电化学抛光所有的溶液大多数是由磷酸、***和铬酐等组成的酸性溶液,氧化性强,容易在阳极表面生成氧化膜,同时又容易在溶液中溶解,这种成膜与溶解的i过程使表面得到整:平与光亮。为了更好的获得质量的效果,有时需要添加其他的物质,如有机溶剂、黏稠剂、有机酸或缓蚀剂等。但有些物质可能会引起燃烧,或对人体有害、增加环境污染,增大治理废水的难度,从而间接加大生产成本。因此,在选择溶液配方时,必须慎重加以综合考虑,选择合理的组分配方。

蓝宝石研磨液  

蓝宝石研磨液(又称为蓝宝石抛光液)是用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液。  蓝宝石研磨液由质量聚晶金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。    

蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性,在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用:  

 1. 外延片生产前衬底的双面研磨:多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道,根据**终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。 

 2. LED芯片背面减薄   为解决蓝宝石的散热问题,需要将蓝宝石衬底的厚度减薄,从450nm左右减至100nm左右。主要有两步:先在横向减薄机上,用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度;再用抛光机(秀和、NTS、WEC等)针对不同的研磨盘(锡/铜盘),采用合适的蓝宝石研磨液(水/油性)对芯片背面抛光,从150nm减至100nm左右。 碳化硅抛光液是以超细碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。

抛光液主要成分:氧化铬、刚玉、铁红、长石粉等材料!根据不同基体成分和要求制成不同的细度和品种。   液体抛光蜡也跟东展新博抛光蜡类似!   加工工序也分4种:   粗抛光   中研磨   中抛光   精细抛光。

液体抛光蜡优点 

1、增加生产量,操作人员不再需要中断抛光工作,可以自动的控制抛光液的喷涂,   

2、节省操作时间,提高产能。   

3、节省清洗时间,抛光液是水性的配方, 抛光后工程的清洗工序更容易,可以节省的清洗时间  

4、抛光轮寿命增加,喷涂液体研磨剂对研磨轮之轮缘表面温度有冷却作用 ,  

5、**减低 研磨轮的损耗,从而增加研磨轮的寿命。   

6、增加产品的稳定性能,避免了人手操作的不确定性。 抛光液具有性能稳定、***,对环境无污染等优点。深圳基板抛光液性能

多晶金刚石 抛光液适用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和 抛光。深圳基板抛光液性能

抛光液现在市场上运用**为***的几种磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其间,SiO2抛光液选择性、涣散性好,机械磨损性能较好,化学性质生动,而且后清洗进程处理较简单;缺点为在抛光进程中易发作凝胶,对硬底资料抛光速率低。CeO2抛光液的长处是抛光速率高,资料去除速率高;缺点是黏度大、易划伤,且选择性欠好,后续清洗困难。Al2O3抛光液的缺点在于选择性低、涣散安稳性欠好、易聚会等,但对于硬底资料蓝宝石衬底等却具有***的去除速率。深圳基板抛光液性能

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