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各楼层直接有高速电梯可达，为了效率和功能隔离，还可能有多部电梯，每部电梯能到的楼层不同——这是集成电路的布线，电源线、地线单独走线，负载大的线也宽；时钟与信号分开；每层之间布线垂直避免干扰；CPU与存储之间的高速总线，相当于电梯，各层之间的通孔相当于电梯间……集成电路或称微电路（microcircuit）、微芯片（microchip）、芯片（chip）在电子学中是一种把电路（主要包括半导体装置，也包括被动元件等）小型化的方式，并通常制造在半导体晶圆表面上。基于硅的集成电路是当今半导体工业主流，具备成本低、可靠性高的优势。MBR0520LT1G

第1个集成电路雏形是由杰克·基尔比于1958年完成的，其中包括一个双极性晶体管，三个电阻和一个电容器。根据一个芯片上集成的微电子器件的数量，集成电路可以分为以下几类：1.小规模集成电路：SSI英文全名为Small Scale Integration，逻辑门10个以下或晶体管100个以下。2.中规模集成电路：MSI英文全名为Medium Scale Integration，逻辑门11~100个或晶体管101~1k个。3.大规模集成电路：LSI英文全名为Large Scale Integration，逻辑门101~1k个或晶体管1，001~10k个。4.超大规模集成电路：VLSI英文全名为Very large scale integration，逻辑门1，001~10k个或晶体管10，001~100k个。5.甚大规模集成电路：ULSI英文全名为Ultra Large Scale Integration，逻辑门10，001~1M个或晶体管100，001~10M个。GLSI英文全名为Giga Scale Integration，逻辑门1，000，001个以上或晶体管10，000，001个以上。MC74VHC1G14DTT1G集成电路的发展需要注重长远布局并加强人才培养，既要解决短板问题，也要加强基础研究和人才队伍的建设。

集成电路普遍应用于其他数字设备中，如平板电脑、智能手表、智能家居、智能汽车等。这些数字设备都需要集成电路来完成各种计算、存储、通信和控制任务，从而实现智能化、自动化和互联化。平板电脑是一种介于电脑和手机之间的设备，它需要集成电路来完成各种计算、存储和通信任务，从而实现更加便携和灵活的使用方式。智能手表是一种可以佩戴在手腕上的设备，它需要集成电路来完成各种计算、存储、通信和传感任务，从而实现更加智能化和健康管理的功能。智能家居是一种可以实现自动化和远程控制的家居系统，它需要集成电路来完成各种控制和通信任务，从而实现更加智能化和便捷的生活方式。智能汽车是一种可以实现自动驾驶和智能交通的汽车系统，它需要集成电路来完成各种控制、感知和通信任务，从而实现更加安全、高效和环保的出行方式。

集成电路发展对策建议：创新性效率超越传统的成本性静态效率，从理论上讲，商务成本属于成本性的静态效率范畴，在产业发展的初级阶段作用明显。外部商务成本的上升实际上是产业升级、创新驱动的外部动力。作为高新技术产业的上海集成电路产业，需要积极利用产业链完备、内部结网度较高、与全球生产网络有机衔接等集群优势，实现企业之间的互动共生的高科技产业机体的生态关系，有效保障并促进产业创业、创新的步伐。事实表明，20世纪80年代，虽然硅谷的土地成本要远高于128公路地区，但在硅谷建立的半导体公司比美国其他地方的公司开发新产品的速度快60%，交运产品的速度快40%。具体而言，就是硅谷地区的硬件和软件制造商结成了紧密的联盟，能至大限度地降低从创意到制造出产品等相关过程的成本，即通过技术密集关联为基本的动态创业联盟，降低了创业成本，从而弥补了静态的商务成本劣势。集成电路的制造过程包括复杂的工艺步骤，如氧化、光刻、扩散和焊接封装等，以保证产品的质量和性能。

集成电路检测常识：1、要保证焊接质量，焊接时确实焊牢，焊锡的堆积、气孔容易造成虚焊。焊接时间一般不超过3秒钟，烙铁的功率应用内热式25W左右。已焊接好的集成电路要仔细查看，建议用欧姆表测量各引脚间有否短路，确认无焊锡粘连现象再接通电源。2、不要轻易断定集成电路的损坏，不要轻易地判断集成电路已损坏。因为集成电路绝大多数为直接耦合，一旦某一电路不正常，可能会导致多处电压变化，而这些变化不一定是集成电路损坏引起的，另外在有些情况下测得各引脚电压与正常值相符或接近时，也不一定都能说明集成电路就是好的。因为有些软故障不会引起直流电压的变化。集成电路的大规模生产和商业化应用标志着现代科技发展的重要里程碑。FQD2P40TM

为了支持集成电路产业的发展，可以通过持续支持科技重大专项、加大产业基金投入等措施来推动行业发展。MBR0520LT1G

氧化工艺是集成电路制造中的基础工艺之一，其作用是在硅片表面形成一层氧化膜，以保护硅片表面免受污染和损伤。氧化膜的厚度和质量对电路的性能和可靠性有着重要的影响。在氧化工艺中，硅片首先被清洗干净，然后放入氧化炉中，在高温高压的氧气环境下进行氧化反应，形成氧化膜。氧化膜的厚度可以通过调节氧化时间和温度来控制。此外，氧化工艺还可以用于形成局部氧化膜，以实现电路的局部隔离和控制。光刻工艺是集成电路制造中较关键的工艺之一，其作用是在硅片表面上形成微小的图案，以定义电路的结构和功能。MBR0520LT1G